Fatecs divulgam resultado da primeira chamada de matrículas

Informação estará disponível no sistema remoto de matrículas; quem teve o processo indeferido pode fazer o acerto da documentação na quarta

Quem não tiver acesso a computador ou internet poderá utilizar os equipamentos da Fatec para realizar o procedimento

Quem não tiver acesso a computador ou internet poderá utilizar os equipamentos da Fatec para realizar o procedimento | Roberto Sungi

Nesta terça-feira (18), o candidato que integra a primeira lista de convocação do processo seletivo das Faculdades de Tecnologia do Estado (Fatecs) pode consultar se sua matrícula foi aprovada, no mesmo sistema remoto de matrículas que utilizou para inscrição.

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Quem teve o processo indeferido deve corrigir a documentação amanhã (19), também pela internet.

O resultado definitivo das matrículas em primeira chamada será divulgado no dia 20.

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Quem não tiver acesso a computador ou internet poderá utilizar os equipamentos da Fatec para realizar o procedimento.

Documentação

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Para efetivar a inscrição, é necessário anexar, via upload, nos formatos PDF, JPEG ou PNG, os seguintes documentos:

• Certificado de Conclusão do Ensino Médio ou equivalente;

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• Histórico Escolar completo do Ensino Médio ou equivalente;

• Carteira de Identidade (RG) com foto, dentro da validade;

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• CPF ou documento de identidade contendo o número de CPF;

• Uma foto 3X4 recente, com fundo neutro;

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• Documento de quitação com o serviço militar ou Certificado de Dispensa de Incorporação (CDI), para o candidato brasileiro maior de 18 anos, do sexo masculino.

Atenção

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A matrícula com uso de nome social poderá ser feita no ato do requerimento. 

Ao fazer essa opção, é preciso preencher no sistema a autodeclaração referente à utilização do nome social.

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Quem ingressou no Sistema de Pontuação Acrescida pelo item escolaridade pública deve apresentar histórico escolar ou declaração escolar, comprovando que cursou integralmente o Ensino Médio ou Educação de Jovens e Adultos (EJA) na rede pública municipal, estadual ou federal, com detalhamento das escolas onde estudou.

Caso o requerente de matrícula pretenda obter aproveitamento de estudos em disciplinas já concluídas em outro curso superior deve apresentar a documentação referente à carga horária, ementa e programa da disciplina cursada e histórico escolar da instituição de origem.

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É de responsabilidade do convocado para matrícula realizar o upload de todos os documentos no sistema de matrícula online, dentro do prazo estabelecido no cronograma.

O detalhamento da documentação pode ser consultado no Manual do Candidato e na Portaria.

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Próximas datas do calendário:

• 19 de julho: prazo para acerto de documentação da primeira chamada para matrícula;

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• 20 de julho, a partir das 15 horas: divulgação do resultado do recurso após acerto de documentação;

• 25 de julho, a partir das 15 horas: segunda chamada do Vestibular das Fatecs e convocação para envio dos documentos de matrícula;

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• 26 de julho: requerimento de matrícula da segunda chamada e envio de documentação por meio digital;

• 28 de julho, a partir das 15 horas: divulgação das matrículas deferidas e indeferidas da segunda chamada;

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• 31 de julho: prazo para acerto de documentação de matrícula da segunda chamada;

• 1º de agosto, a partir das 15 horas: divulgação do resultado final das matrículas da segunda chamada.

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Sobre o Centro Paula Souza – Autarquia do Governo do Estado de São Paulo vinculada à Secretaria de Ciência, Tecnologia e Inovação, o Centro Paula Souza (CPS) administra as Faculdades de Tecnologia (Fatecs) e as Escolas Técnicas (Etecs) estaduais, além das classes descentralizadas – unidades que funcionam com um ou mais cursos, sob supervisão de uma Etec –, em cerca de 360 municípios.

As Etecs atendem mais de 226 mil alunos nos Ensinos Técnico, Integrado e Médio.

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Nas Fatecs, o número de matriculados nos cursos de graduação tecnológica supera 96 mil estudantes. Além dos cursos técnicos e superiores de tecnologia, a instituição oferece Formação Continuada e Pós-graduação (stricto sensu e lato sensu).